磁控濺射技術(shù)屬于PVD（物理氣相沉積）技術(shù)的一種，是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn)，將離子引向被濺射的物質(zhì)制成的靶電極（陰極），并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運(yùn)動(dòng)到襯底并在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射設(shè)備使得鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高，該技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段。   

通過不斷突破包括濺射源設(shè)計(jì)、等離子產(chǎn)生與控制、顆?？刂啤⑶皇以O(shè)計(jì)與仿真模擬、軟件控制等在內(nèi)的多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，北方華創(chuàng)建立起了核心技術(shù)優(yōu)勢，設(shè)備應(yīng)用跨越多個(gè)技術(shù)代，代表著國產(chǎn)集成電路薄膜制備工藝設(shè)備的較高水平。此外，北方華創(chuàng)PVD設(shè)備技術(shù)也延伸應(yīng)用于先進(jìn)封裝、半導(dǎo)體照明等領(lǐng)域，多款PVD產(chǎn)品均已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。