化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來(lái)制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。典型的CVD工藝過(guò)程是把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成所需薄膜的一種方法。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。   

北方華創(chuàng)憑借二十余年的半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品領(lǐng)域工藝設(shè)備研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，致力于為集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備，滿足客戶的多種制造工藝需求。北方華創(chuàng)自主開發(fā)的臥式PECVD 已成功進(jìn)入海外市場(chǎng)，為多家國(guó)際先進(jìn)光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設(shè)備在感應(yīng)加熱高溫控制技術(shù)、氣流場(chǎng)、溫度場(chǎng)模擬仿真技術(shù)等方面取得了重大的突破，達(dá)成了優(yōu)秀的外延工藝結(jié)果，獲得多家國(guó)內(nèi)主流生產(chǎn)線批量采購(gòu)。面向LED領(lǐng)域介質(zhì)膜沉積的PECVD設(shè)備，憑借優(yōu)秀的工藝性能和產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)，已成為L(zhǎng)ED客戶擴(kuò)產(chǎn)優(yōu)選設(shè)備。面向化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，碳化硅外延設(shè)備的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)也均已達(dá)到行業(yè)先進(jìn)水平，批量機(jī)臺(tái)已在各大主流廠商實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)。