eVictor PVD Al 金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor PVD Al System
- 設備特點
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- 先進的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率
- 專業(yè)的加熱基座和高溫靜電卡盤設計，具備良好的溫度均勻性
- 全新雙腔傳輸平臺，可配置性強，可支持10個工藝模塊
- 優(yōu)秀的Whisker Defect解決方案，降低產品缺陷
- 大產能，低運營成本
- 產品應用
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- 晶圓尺寸12英寸
- 適用材料鋁、氮化鉭、氮化鈦、鈦
- 適用工藝Al Pad、鋁線、熱鋁
- 適用領域集成電路、功率半導體、硅基微型顯示
