iTops Series PVD AlN 濺射系統(tǒng)
iTops Series PVD AlN Sputter System
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 超高的加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)秀的真空能力
- 高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及良好的薄膜厚度均勻性
- 占地面積小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作靈活,維修方便
- 設(shè)備穩(wěn)定,稼動(dòng)率高,運(yùn)營(yíng)成本低
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸2、4、6 英寸
- 適用材料氮化鋁
- 適用工藝氮化鋁緩沖層濺射
- 適用領(lǐng)域半導(dǎo)體照明