半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

iTops Series

PVD AlN 濺射系統(tǒng)

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iTops Series PVD AlN 濺射系統(tǒng)
iTops Series PVD AlN Sputter System
iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)主要用于2、4、6英寸AlN沉積工藝。該機(jī)臺(tái)為單工藝腔室設(shè)備，配備傳輸腔室和冷卻腔室。AlN設(shè)備具有占地面積小、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作靈活、維修方便、耗材便宜等優(yōu)勢(shì)；具備與國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手同等的工藝能力。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 超高的加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)秀的真空能力
  • 高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及良好的薄膜厚度均勻性
  • 占地面積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作靈活，維修方便
  • 設(shè)備穩(wěn)定，稼動(dòng)率高，運(yùn)營(yíng)成本低
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    2、4、6 英寸
  • 適用材料
    氮化鋁
  • 適用工藝
    氮化鋁緩沖層濺射
  • 適用領(lǐng)域
    半導(dǎo)體照明
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