物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，采用物理方法，將材料源表面轉(zhuǎn)化成原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD設(shè)備使得鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等各類工業(yè)領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤滑、超導(dǎo)等特性的膜層，該技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段。北方華創(chuàng)憑借在大尺寸平面和旋轉(zhuǎn)陰極設(shè)計(jì)、磁場仿真開發(fā)、平衡與非平衡磁控濺射、陰極電弧源、離子源表面刻蝕和輔助沉積等多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)的積累創(chuàng)新，現(xiàn)已有連續(xù)式磁控鍍膜裝備、柔性基材卷繞鍍膜裝備、單體復(fù)合型真空鍍膜設(shè)備。產(chǎn)品覆蓋鋰電復(fù)合集流體、磁性材料稀土擴(kuò)滲層、柔性透明導(dǎo)電層以及醫(yī)療器械和汽車零部件等工件表面功能層的制備，可為鋰電、光伏、氫能等新能源行業(yè)，以及醫(yī)療、消費(fèi)器件、汽車零部件等其他工業(yè)領(lǐng)域，提供真空鍍膜裝備及技術(shù)開發(fā)服務(wù)。