半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

Polaris Series

8/12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)

聯(lián)系咨詢
Polaris Series 8/12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris Series 8/12 Inch PVD System
Polaris系列PVD系統(tǒng)主要由大氣平臺，真空傳輸平臺，去氣腔室（Degas），預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置多個(gè)工藝腔室、預(yù)清洗腔室和去氣腔室，適合封裝領(lǐng)域薄膜制備大規(guī)模生產(chǎn)。Polaris系列PVD為全自動(dòng)大產(chǎn)能設(shè)備，具有反應(yīng)腔自動(dòng)開閉蓋、晶圓自動(dòng)傳輸、工藝去氣、晶圓表面預(yù)清潔、薄膜沉積完全自動(dòng)化等特點(diǎn)。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 專業(yè)的磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)有效提高靶材利用率
  • 靈活的腔室配置，8/12英寸兼容
  • 穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng)，兼容玻璃片、翹曲片、鍵合片等多種類型基片傳輸
  • 穩(wěn)定并且低的Rc表現(xiàn)，良好的顆粒和應(yīng)力控制能力
  • 優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn)，低運(yùn)營成本
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    8/12英寸兼容
  • 適用材料
    銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭、鎢化鈦、金、鋁等
  • 適用工藝
    晶圓級先進(jìn)封裝中的UBM金屬濺射、重布線
  • 適用領(lǐng)域
    先進(jìn)封裝、硅基微型顯示
分享我們：
微信掃一掃
聯(lián)系我們
官方公眾號