??展會地點： 云端線上
??展會時間：2022年6月14日-7月12日
? ? 中國國際半導體技術大會（CSTIC 2022）將于6月14日-7月12日在SEMI云端線上舉行。近百位世界頂級專家匯聚一堂，共享前沿技術，內容涵蓋IC設計、器件與集成、光刻、刻蝕、CMP、封裝測試、化合物半導體等。
???北方華創(chuàng)的資深專家們將在分論壇三- Dry & Wet Etch and Cleaning帶來先進的刻蝕技術成果。在此，北方華創(chuàng)誠摯邀請您與我們一同交流探討前沿刻蝕技術，推動產業(yè)進步，創(chuàng)造無限可能。
NAURA演講時間
-Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning-
Session III:?FEOL/MOL Etching
演講題目：《Bitline Etch Process Development for 1y nm DRAM Manufacturing》
講師：姚興俊?先生
Session III:?FEOL/MOL Etching
演講題目：《200/150/100mm Compatible, ICP/CCP Etch Total Solutions》
講師：張軼銘?博士
Session IV: Plasma Source and Wet Etch/Clean
演講題目：《SADP etch process development using PR core for sub 17nm DRAM》
講師：徐力田 先生
Session V: BEOL Etching and Memory Etch
演講題目：《Hard mask etch process development for patterning 60nm magnetic tunnel junction》
講師：李曉輝 女士
Session VI: Other Etch and Patterning
演講題目：《Trench Etch for SiC Power Devices》
講師：謝秋實?先生
