TAU Series 離子微粒吸附設(shè)備
TAU Series Thermal AMC Unit
- 設(shè)備特點
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- 提升產(chǎn)品蝕刻及顯影良率
- 防止曝光設(shè)備鏡面霧化以延長鏡組使用年限
- 防止鏡片組污染，延長燈具照度與壽命
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 濕度控制精度±5%RH~±3%RH
- 溫度控制精度±0.5℃~±0.3℃
- 氣狀分子污染物去除率＞80% in Main AMC
- 適用領(lǐng)域主要用于面板廠、晶圓廠、封裝測試廠的曝光機鏡面防霧化, 去除吸入曝光機中的AMC 污染物
