真空裝備 Vacuum Tech

VVK50.55

連續(xù)滲硅爐

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VVK50.55 連續(xù)滲硅爐
VVK50.55 Continuous silicon infiltration furnace
連續(xù)滲硅爐用于碳碳材料的高溫滲硅處理工藝。設備由加熱腔室、過渡腔室、冷卻腔室、物料傳輸系統(tǒng)、快冷系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。
設備特點
  • 連續(xù)生產
  • 單位產品能耗低
  • 產品一致性好
技術指標
  • 爐內工作區(qū)截面尺寸
    500×550mm（寬×高）
  • 工作溫度
    1700℃
  • 冷態(tài)極限真空度
    10Pa
  • 熱態(tài)極限真空度
    80Pa
  • 壓升率
    10 Pa/h
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