真空裝備 Vacuum Tech

CVI330

化學(xué)氣相沉積爐

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CVI330 化學(xué)氣相沉積爐
CVI330 Chemical vapor deposition furnace
化學(xué)氣相滲透注入工藝(CVI)是化學(xué)氣相沉積(CVD)法的一種延伸,是指將一種或幾種烴類氣體化合物經(jīng)高溫分解、縮聚之后炭沉積在多孔介質(zhì)內(nèi)部,使材料致密化的方法,是新發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料新技術(shù),該技術(shù)主要用于制備各種高溫陶瓷基復(fù)合材料,包括碳/碳復(fù)合材料和以碳化物、氮化物為基質(zhì)的材料,CVI設(shè)備主要應(yīng)用于光伏輔材的碳纖維氣體沉積。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 多區(qū)控溫,更優(yōu)溫度均勻性,可拓寬客戶工藝需求
  • 模塊化保溫設(shè)計(jì),具有較低的保溫功率,降低能耗,助于發(fā)展低碳經(jīng)濟(jì)
  • 通過(guò)模擬分析,設(shè)計(jì)合理的碳源分配系統(tǒng),可滿足客戶多種產(chǎn)品工藝要求
  • 自動(dòng)內(nèi)外室壓差控制系統(tǒng),提升設(shè)備可靠性,延長(zhǎng)熱區(qū)使用壽命
  • 更優(yōu)的快冷系統(tǒng)設(shè)計(jì),冷卻效率更高,提高生產(chǎn)效率
  • 多級(jí)冷凝和過(guò)濾裝置,提高設(shè)備穩(wěn)定性
技術(shù)指標(biāo)
  • 溫度范圍
    ≤1160℃
  • 有效區(qū)
    Φ3300×3800mm
  • 溫度均勻性
    ≤±10℃
  • 分壓
    1000~10000Pa
  • 壓升率
    50Pa/h
  • 連續(xù)運(yùn)行時(shí)間
    ≥350h
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