GSE V200 高精度刻蝕機(jī)
GSE V200 High Precision Etcher
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 用于GaN功率器件、GaN射頻器件、GaN顯示器件的刻蝕設(shè)備
- 低損傷高精度刻蝕,兼容ALE功能
- 可調(diào)節(jié)的等離子體源設(shè)計(jì),寬闊的工藝窗口
- 專業(yè)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)良的刻蝕均勻性
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸8英寸及以下
- 適用材料氮化鎵、氧化硅/氧化鈦、砷化鎵、磷化鎵、鋁鎵銦磷、氮化硅、鎢化鈦、有機(jī)物等
- 適用工藝多種材料刻蝕工藝
- 適用領(lǐng)域化合物半導(dǎo)體、Micro LED、科研領(lǐng)域