CLP1000R6-2/ZM 重稀土PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 采用臥式設(shè)計，整個操作過程自動運(yùn)行
- 采用托盤支撐的工件擺放方式，可以節(jié)省裝夾時間和節(jié)約人工，降低勞動強(qiáng)度和運(yùn)行成本
- 選用新型專業(yè)定制的高利用率旋轉(zhuǎn)陰極，靶材濺出率可達(dá)到85%~90%
- 旋轉(zhuǎn)靶材擁有更長的使用時間，大大延長了設(shè)備的換靶周期/減少破空周期
- 良好的靶筒冷卻系統(tǒng)使旋轉(zhuǎn)陰極可以承受更高的功率密度
- 技術(shù)指標(biāo)
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- 鍍層厚度均勻性≤±5%
- 設(shè)備壓升率（鍍膜區(qū)）≤0.6Pa/h（空載、室溫）
- 冷卻效率20min內(nèi)出料，工件表面溫度≤80℃
- 靶材濺出率靶材為10mm厚時，靶材濺出率≥82%
- 陰極數(shù)量4套高利用率旋轉(zhuǎn)陰極
