真空裝備 Vacuum Tech

CLP1000R6-2/ZM

重稀土PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備

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CLP1000R6-2/ZM 重稀土PVD連續(xù)鍍膜設(shè)備
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
設(shè)備采用真空鍍膜技術(shù),針對重稀土晶界擴(kuò)散工藝中重稀土成膜工序進(jìn)行專門設(shè)計,該設(shè)備具有常規(guī)真空鍍膜技術(shù)的沉積膜層均勻、致密、附著力強(qiáng)等特點(diǎn),還具有高稼動率、大產(chǎn)能等優(yōu)點(diǎn)。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 采用臥式設(shè)計,整個操作過程自動運(yùn)行
  • 采用托盤支撐的工件擺放方式,可以節(jié)省裝夾時間和節(jié)約人工,降低勞動強(qiáng)度和運(yùn)行成本
  • 選用新型專業(yè)定制的高利用率旋轉(zhuǎn)陰極,靶材濺出率可達(dá)到85%~90%
  • 旋轉(zhuǎn)靶材擁有更長的使用時間,大大延長了設(shè)備的換靶周期/減少破空周期
  • 良好的靶筒冷卻系統(tǒng)使旋轉(zhuǎn)陰極可以承受更高的功率密度
技術(shù)指標(biāo)
  • 鍍層厚度均勻性
    ≤±5%
  • 設(shè)備壓升率(鍍膜區(qū))
    ≤0.6Pa/h(空載、室溫)
  • 冷卻效率
    20min內(nèi)出料,工件表面溫度≤80℃
  • 靶材濺出率
    靶材為10mm厚時,靶材濺出率≥82%
  • 陰極數(shù)量
    4套高利用率旋轉(zhuǎn)陰極
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