ACE i300為高密度等離子體去膠機(jī)，主要用于8/12英寸光刻膠干法刻蝕。采用高功率等離子體源系統(tǒng)，具有高去膠速率、高均勻性、低等離子體損傷、低缺陷等性能優(yōu)勢(shì)，適用離子注入后去膠、刻蝕后去膠以及表面處理等工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔室集群設(shè)備、產(chǎn)能高、易維護(hù)、性能穩(wěn)定、客戶擁有成本低。為不同應(yīng)用需求客戶提供低成本設(shè)備平臺(tái)方案。