EPEE i800 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
EPEE i800 PECVD System
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 多站式旋轉(zhuǎn)沉積架構(gòu)，兼具產(chǎn)能和均勻性優(yōu)勢
- 良好的片內(nèi)、片間薄膜均勻性控制
- 全自動晶圓傳輸系統(tǒng)，高效便捷
- 高效大功率在線清洗工藝及沉積顆粒度控制
- 集成多項(xiàng)人性化軟件操作功能
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸8英寸及以下
- 適用材料氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
- 適用工藝氧化硅圖形化襯底層、鈍化保護(hù)層、絕緣層、掩摸層沉積
- 適用領(lǐng)域化合物半導(dǎo)體、半導(dǎo)體照明、科研領(lǐng)域
