GDE C200 高密度刻蝕機
GDE C200 High Density Etcher
- 設(shè)備特點
-
- 高密度等離子體設(shè)計適用于強鍵合材料刻蝕
- 優(yōu)秀的刻蝕速率、刻蝕均勻性、PM 周期
- 靈活的系統(tǒng)配置，適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應(yīng)用
- 低擁有成本和運營成本
- 產(chǎn)品應(yīng)用
-
- 晶圓尺寸8 英寸及以下
- 適用材料碳化硅、氮化硅、鋁鈧氮、鉬、鋁氮、鋯鈦酸鉛、氧化鋁、氮化鎵等
- 適用工藝碳化硅通孔刻蝕、碳化硅柵槽刻蝕、鉬-鋁氮電極刻蝕等
- 適用領(lǐng)域化合物半導體、科研領(lǐng)域
