半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

FLOURIS A201

8英寸立式低溫退火爐

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FLOURIS A201 8英寸立式低溫退火爐
FLOURIS A201 8 Inch Vertical Low-Temp Anneal Furnace
FLOURIS A201主要用于8英寸低溫合金化及退火工藝。設(shè)備具有自動(dòng)化程度高、系統(tǒng)性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)快速升降溫。主要由工藝腔室、傳輸系統(tǒng)、快速降溫系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)等組成，可實(shí)現(xiàn)銅退火及合金等工藝，微環(huán)境可以進(jìn)行低氧含量控制。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 工藝溫度范圍擴(kuò)展性良好
  • 溫度恢復(fù)性能優(yōu)良
  • 低溫控制穩(wěn)定性好
  • 系統(tǒng)可維護(hù)性好
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    8英寸
  • 適用材料
    硅、碳化硅
  • 適用工藝
    氮?dú)馔嘶?、合?/div>
  • 適用領(lǐng)域
    集成電路、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、硅基微型顯示、科研領(lǐng)域
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