THEORIS A302C立式退火爐在中低溫條件下，通入N?、H?或D?等氣體，消除硅片界面處金屬及非金屬晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量，提升器件良率。該退火設(shè)備提供高精度的溫度控制算法、嚴(yán)格的金屬控制指標(biāo)、穩(wěn)定的傳輸控制系統(tǒng)以及安全的特氣處理裝置等解決方案，兼顧了工藝目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)與生產(chǎn)可靠性的保障。