半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

TENESIS X308P

12英寸立式大產(chǎn)能中溫氧化爐

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TENESIS X308P 12英寸立式大產(chǎn)能中溫氧化爐
TENESIS X308P 12 Inch Vertical Large Batch Mid-Temp Oxidation Furnace
TENESIS X308P為立式單腔大產(chǎn)能爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實現(xiàn)了高度自動化，該系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、電源柜等部分組成。
設(shè)備特點
  • 高精度溫度場控制技術(shù)
  • 高穩(wěn)定性工藝表現(xiàn)
  • 高智能化自我偵測系統(tǒng)
  • 大產(chǎn)能
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    12英寸
  • 適用材料
    硅
  • 適用工藝
    干氧氧化、濕氧氧化、DCE氧化
  • 適用領(lǐng)域
    集成電路
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