THEORIS PY302U 12英寸立式低壓化學(xué)氣相沉積非摻雜多晶硅爐
THEORIS PY302U 12 Inch Vertical LPCVD Undoped Poly Furnace
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 先進(jìn)的壓力控制系統(tǒng)
- 高精度溫度場控制技術(shù)
- 先進(jìn)的顆?？刂萍夹g(shù)
- 優(yōu)良的薄膜均勻性
- 先進(jìn)的微環(huán)境氧含量控制技術(shù)
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸12英寸
- 適用材料硅
- 適用工藝多晶硅薄膜低壓化學(xué)氣相沉積
- 適用領(lǐng)域集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料
