THEORIS SN302D主要用于12英寸晶圓上的氮化硅薄膜低壓化學(xué)氣相沉積工藝，可覆蓋高、低溫氮化硅薄膜沉積。該機(jī)臺(tái)可進(jìn)行全自動(dòng)工藝流程，系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、控制模塊和附屬設(shè)備構(gòu)成。升級(jí)版系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)原位清洗等功能，有效控制顆粒，降低維護(hù)時(shí)間，提高設(shè)備利用率。