Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)
Esther E320R 8 Inch Single Wafer Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 專業(yè)的氣流場和溫度場設(shè)計(jì)，獲得良好的工藝性能
- 高精度的壓力控制系統(tǒng)，保證成膜質(zhì)量
- 穩(wěn)定的傳輸和電機(jī)升降系統(tǒng)，保證工藝結(jié)果一致性
- 友好的人機(jī)交互和全面的安全性設(shè)計(jì)，保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效
- 具有單腔和多腔兩種機(jī)型，可滿足不同客戶需求
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸6/8英寸兼容
- 適用材料硅
- 適用工藝體硅外延、埋層外延、選擇性外延
- 適用領(lǐng)域集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域
