半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

Esther E320R

8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)

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Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)
Esther E320R 8 Inch Single Wafer Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
Esther E320R主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模塊等組成。精準(zhǔn)的壓力、氣流場與溫場控制,保證了外延片良好的工藝性能,保證成膜質(zhì)量。傳輸模塊可兼容多種晶圓尺寸,同時(shí)滿足多種類的工藝需求。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 專業(yè)的氣流場和溫度場設(shè)計(jì),獲得良好的工藝性能
  • 高精度的壓力控制系統(tǒng),保證成膜質(zhì)量
  • 穩(wěn)定的傳輸和電機(jī)升降系統(tǒng),保證工藝結(jié)果一致性
  • 友好的人機(jī)交互和全面的安全性設(shè)計(jì),保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效
  • 具有單腔和多腔兩種機(jī)型,可滿足不同客戶需求
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    6/8英寸兼容
  • 適用材料
  • 適用工藝
    體硅外延、埋層外延、選擇性外延
  • 適用領(lǐng)域
    集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域
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