HORIC L200 臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
HORIC L200 LPCVD System
- 設(shè)備特點(diǎn)
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- 可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)
- 高可靠性、穩(wěn)定性
- 安全性能高，設(shè)備及所使用的元件符合國(guó)家和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
- 可提供先進(jìn)成熟的MES系統(tǒng)解決方案
- 良好的工藝技術(shù)支持
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸4、6、8 英寸
- 適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵
- 適用工藝氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、PSG、BPSG
- 適用領(lǐng)域化合物半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域
