半導(dǎo)體裝備 Semiconductor

HORIC L200

臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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HORIC L200 臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
HORIC L200 LPCVD System
HORIC L200 LPCVD系統(tǒng),主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜,設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高,可滿足半導(dǎo)體領(lǐng)域的多種產(chǎn)線需求。設(shè)備包含凈化工作臺(tái)、爐體機(jī)箱、氣源柜、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)五大部分,相關(guān)模塊齊全,可根據(jù)不同客戶需求進(jìn)行配置。
設(shè)備特點(diǎn)
  • 可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)
  • 高可靠性、穩(wěn)定性
  • 安全性能高,設(shè)備及所使用的元件符合國(guó)家和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)
  • 可提供先進(jìn)成熟的MES系統(tǒng)解決方案
  • 良好的工藝技術(shù)支持
產(chǎn)品應(yīng)用
  • 晶圓尺寸
    4、6、8 英寸
  • 適用材料
    硅、碳化硅、硅基氮化鎵
  • 適用工藝
    氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、PSG、BPSG
  • 適用領(lǐng)域
    化合物半導(dǎo)體、襯底材料、科研領(lǐng)域
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