NMC 612G是電感耦合高密度等離子體干法刻蝕機(jī)，主要用于集成電路、功率半導(dǎo)體、硅基微型顯示領(lǐng)域。NMC 612G為多腔室集群設(shè)備（Cluster Tool），它是一個全自動化的，能夠進(jìn)行串行或并行工藝處理的刻蝕系統(tǒng)。 本設(shè)備包含工藝模塊和傳輸模塊，可從12英寸硅片傳輸盒（FOUP）中連續(xù)自動取片并在所指定的工藝腔室里完成所設(shè)定的工藝。