NMC 612D 12英寸硅刻蝕機
NMC 612D 12 Inch Silicon Etcher
- 設(shè)備特點
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- 脈沖等離子體控制技術(shù)減少等離子體誘導損傷
- 精確的刻蝕形貌控制
- 先進的表面處理和噴涂技術(shù)
- 穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng)和優(yōu)化的工藝流程
- 產(chǎn)品應(yīng)用
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- 晶圓尺寸12英寸
- 適用材料硅
- 適用工藝淺溝槽隔離刻蝕、柵極刻蝕、側(cè)墻刻蝕、雙重圖形曝光
- 適用領(lǐng)域集成電路
