半導體裝備 Semiconductor

TCU Series

精密恒溫恒濕機

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TCU Series 精密恒溫恒濕機
TCU Series Thermal Control Unit
TCU 精密恒溫恒濕機在基板曝光前可保持基板表面曝光前溫度的均勻性。TCU為一精密溫度控制設備,空氣經(jīng)由TCU處理后,溫度控制的精度可達目標溫度±0.01℃,此設備可滿足制程環(huán)境更精準的溫控需求,確保產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定性及產(chǎn)品的良率。
設備特點
  • 精密溫濕度控制,確保曝光機、顯影/ 涂布設備等制程良率
  • 可根據(jù)客戶需求風量定制,送風單元結(jié)構(gòu)均勻布置
  • 溫度控制的精度可達目標溫度±0.01℃,確保產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定性及產(chǎn)品的良率
產(chǎn)品應用
  • 溫度控制精度
    ±0.1℃~±0.01℃
  • 濕度控制精度
    ±2%RH~±1%RH
  • 適用領域
    主要用于面板廠、晶圓廠、封裝測試廠精密溫濕度控制
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